微型化已经成为印刷线路板和电子封装材料发展的主要方向之一，其中聚合物基电子封装材料在电子器件封装应用中具有广阔前景。传统的聚酰亚胺薄膜导热系数仅为0．16 w／(m·K)左右，应用于微电子的高密度和高速化运行时容易出现电路过热，影响元器件和集成电路的稳定性，高导热PI膜是顺应市场需求而产生的产品，其制备工艺和原理与耐电晕PI膜类似，都是将具有特殊功能的纳米填料掺杂人到聚酰胺酸树脂中，再高温亚胺化成膜，使得薄膜具有相应的功能。同样，高导热PI膜所需要解决的问题也是如何将纳米填料均匀分散在树脂体系中。优质聚酰亚胺薄膜选聚酰亚胺薄膜制造达昇新材料有限公司。

众所周知，聚酰亚胺的归纳功能优异，用处广泛。优质聚酰亚胺薄膜首要应用于电工、电子、通讯、新能源、信息记载与印象技能与资料、环保、航空航天、军事、特种包装资料及现代纸业等范畴。开始时，首要用于绝缘薄膜等范畴。后来，跟着国际科学技能的迅猛开展， 特别是全球进入信息化年代，外层国际空间的开发进入一个新的阶段，地球人类尽力探求绿色环保新能源以来， 国际范围内聚酰亚胺薄膜制造聚酰亚胺及其薄膜的研制更以迅猛之势获得长足进步。并敏捷向多层柔性印刷电路板范畴、太阳能电池及燃料电池等新能源范畴前进。尤其是2004年以来，国内外市场对移动电话、电子成像设备、电脑、液晶电视等的需求量激增， 使其加快向信息记载及数字印象等范畴扩张。

光刻胶：某些聚酰亚胺还可以用作光刻胶。有负性胶和正性胶，分辨率可达亚微米级。与颜料或染料配合可用于彩色滤光膜，可大大简化加工工序。在微电子器件中的应用：用作介电层进行层间绝缘，作为缓冲层可以减少应力、提高成品率。作为保护层可以减少环境对器件的影响，还可以对a-粒子起屏蔽作用，减少或消除器件的软误差。半导体工业使用聚酰亚胺作高温黏合剂，在生产数字化半导体材料和MEMS系统的芯片时，由于聚酰亚胺层具有良好的机械延展性和拉伸强度，有助于提高聚酰亚胺层以及聚酰亚胺层与上面沉积的金属层之间的粘合。 聚酰亚胺的高温和化学稳定性则起到了将金属层和各种外界环境隔离的作用。优质聚酰亚胺薄膜就选聚酰亚胺薄膜制造达昇新材料公司。

按照其物理特性可以分为结晶型和非晶型，大多数聚酰亚胺薄膜制造聚酰亚胺是非结晶型，只有很少结构的聚酰亚胺是结晶型和半结晶型。结晶型具有明显的熔点，在熔点以上具有相对很低的熔体粘度和可加工性，是开发热塑性聚酰亚胺时首要选择的结构类型。非结晶型聚酰亚胺因为没有熔点，玻璃化温度（Tg）以上熔体粘度仍然较高，一般采用模塑成型。优质聚酰亚胺薄膜按照化学特性常规上可以分为热塑性和热固性。热塑性的就是像普通塑料可以加热熔融，可以注塑，挤出，模塑成型，而热固性的则是里面含有双键或者乙炔基等基团，类似是不饱和树脂，环氧树脂等材料一样，需要高温或者加热才能固化成型，比如双马来酰亚胺(BMI)，含苯乙炔封端的聚酰亚胺等，主要用途是胶粘剂和复合材料。

我国在聚酰亚胺薄膜产业化方面起步并不晚，早在上世纪70年代就由原一机部组织开展了聚酰亚胺薄膜制造技术的研究。但由于种种原因，我国聚酰亚胺薄膜制造高性能聚酰亚胺薄膜的制造技术一直处于低水平徘徊的状态。伴随着超大规模集成电路制造与封装产业和特种电力电器行业等的高速发展，高性能聚酰亚胺薄膜材料的匮乏，成为严重制约我国高新技术产业发展的瓶颈。面对我国聚酰亚胺薄膜制造聚酰亚胺薄膜急需解决的科学和技术难题，中国科学院化学研究所自2003年起在国家发改委国家高技术产业化项目的支持下，开始致力于高性能聚酰亚胺薄膜制造技术的研究。通过近八年的努力，攻克了从关键树脂制备到连续双向拉伸聚酰亚胺薄膜生产的稳定工艺等技术关键，掌握了具有我国自主知识产权的高性能聚酰亚胺薄膜制造技术。